三星电子西安半导体工厂投产 主产10纳米级闪存

　　【华闻资讯报道 记者 李小飞】据韩联社5月9日消息，三星电子在中国西安建设的半体生产工厂9日正式竣工并投产运营。这是三星电子继在美国奥斯汀后第二次在海外建设半导体工厂。该厂占地面积为115万平方米、总建筑面积23万平方米，主要生产10纳米级闪存(V-NAND)。

　　三星电子当天举行竣工仪式，陕西省委书记和韩国驻华大使等两国主要人士出席了活动。三星电子董事长权五铉在致辞中表示，正如以西安为起点的丝绸之路扮演东西方文明交流枢纽的角色一样，希望三星西安半导体工厂能够成为“21世纪数码丝绸之路”的起点。

　　三星电子表示，西安工厂正式投产意味着三星成功构建连接韩国、中国和美国的“全球半导体生产系统”。西安工厂投产后，三星电子10纳米级闪存的生产能力有望进一步提升，可确保产品的稳定供给。

责任编辑：李文瑶

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