曝台积电决定暂缓扩产工作、关闭EUV光刻机，预计明年7nm利用率低于90

据Digitimes报道，供应链内部人士表示，由于客户订单减少，TSMC 7nm产能利用率将逐渐下降由于市场需求放缓，TSMC决定暂时放缓高雄工厂的扩张预计2023年7nm生产线产能利用率将低于90%

据台湾《经济日报》报道，TSMC的先进制造工艺可能会被客户削减，极紫外设备将被关闭，以减缓产能。

对于这一传闻，摩根大通经过调查后于最近几天予以证实根据摩根大通发布的最新报告，TSMC正面临联发科，AMD，高通和英伟达等四家先进工艺客户削减订单，并计划关闭四家极紫外掩膜版光刻机以减少产量届时，每月产能将锐减1.5万件，明年利润将下降8%，这是三年来利润首次下降

此外，产业链源头手机芯片商爆料称，TSMC先进制程产能利用率开始下降，且下降时间在评估后会持续一段时间因此，TSMC计划从今年年底开始关闭一些EUV光刻机，以节省EUV光刻机的巨大功耗

对此，TSMC回应称不评论市场传言不过，TSMC重申了此前的预期:今年产能依然紧张，营收增长目标不变，明年增长也将保持

TSMC还表示，它对所有机器和设备都有一个年度计划，并按照计划在不影响正常运营的情况下进行日常维护和升级。

高雄南自工业园8月7日开工建设据介绍，TSMC是唯一一家进驻南自工业园区的制造商园区的建设也代表了工厂建设阶段，完成了产业链的关键拼图

TSMC此前计划在高雄设立晶圆厂，生产7纳米和28纳米工艺，将于2024年开始量产。

除了高雄工厂，TSMC还在美国亚利桑那州和日本熊本县建立了两座晶圆厂TSMC表示，亚利桑那州工厂将生产5纳米芯片，熊本工厂将使用特殊技术生产芯片

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